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レゾナックと东北大、廃弃シリコンと颁翱?から厂颈颁パワー半导体材料を作る技术を共同研究

【本学研究者情报】

〇大学院工学研究科 応用化学専攻
助教 福島 潤

【発表のポイント】

  • レゾナックと东北大学は、シリコンスラッジとCO2からSiCを作る技术をSiCパワー半导体材料の结晶成长に応用するための本格検讨を开始
  • 本技术は、「鉱物化」という、CO2を固体と反応させるカーボンリサイクル技术により、シリコンスラッジとCO2を再资源化し、有価なSiC原料を创出する技术へ応用するもの
  • 本技术が実用化すれば、SiCパワー半导体は製品として省エネルギー化に贡献するだけでなく、製造工程においてもCO2排出量削减、シリコンスラッジおよびCO2の再资源化が同时に実现し、ライフサイクル全体で环境负荷を低减することが可能になる

【概要】

株式会社レゾナック(社长 CEO:髙桥秀仁、以下、レゾナック)と国立大学法人东北大学大学院工学研究科(研究科长:伊藤彰则、以下、东北大学)は、シリコンウェハーの製造过程で発生する廃弃物(シリコンスラッジ)と二酸化炭素(CO2)を原料とした炭化ケイ素(SiC)粉末を、パワー半导体に用いるSiC単结晶材料の成长用原料として応用するための基础検讨を2024年より行ってきました。本技术が実用化すれば、SiCパワー半导体は、製品として省エネルギー化に贡献するだけでなく、製造工程においても、CO2排出削减、シリコンスラッジおよびCO2の再资源化が実现し、ライフサイクル全体で环境负荷を低减することが可能になります。

レゾナックと东北大学は、基础検讨段阶が完了したため、このたび応用に向けた本格検讨を开始しました。

シリコンスラッジとCO2の再资源化イメージ図

详细(プレスリリース本文)PDF

问い合わせ先

(研究に関すること)
东北大学大学院工学研究科
応用化学専攻
助教 福島潤
TEL: 022-795-7226
Email: jun.fukushima.d5*tohoku.ac.jp
(*を蔼に置き换えてください)

(报道に関すること)
东北大学大学院工学研究科
情报広报室
担当 沼澤みどり
TEL: 022-795-5898
Email: eng-pr*grp.tohoku.ac.jp
(*を蔼に置き换えてください)

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