2025年 | イベント
【奥别产,现地】第29回未来科学オープンセミナー「半导体の高性能化を担うフォトレジストとは」（2025/1/7开催）
未来科学オープンセミナーでは、东北大学未来科学技术共同研究センターで行っている研究の成果や独创的な开発研究を、分かりやすくご绍介いたします。
开催概要
讲演题目：
半导体の高性能化を担うフォトレジストとは
―半导体フォトレジストの开発现况と半导体产业の动向―
日 时：2025年1月7日（火）
13:30開場 14:00開始
开催形式：现地开催＋オンライン
申込方法：申込フォームから
申込缔切：2025年1月6日（月）
主催等
主催：未来科学技术共同研究センター
协賛：日本工学アカデミー东北支部?北海道支部
问い合わせ先
未来科学技术共同研究センター开発企画部
未来科学オープンセミナー事务局
罢贰尝：022-795-4004
贰尘补颈濒：尘颈谤补颈*尘濒.苍颈肠丑别.迟辞丑辞办耻.补肠.箩辫（*を蔼に置き换えてください）