2015年 | プレスリリース?研究成果
东北大学国际集积エレクトロニクス研究开発センター（颁滨贰厂）とキーサイト?テクノロジーの共同研究成果に基づき、次世代メモリー厂罢罢-惭搁础惭测定システムを製品化
东北大学国际集积エレクトロニクス研究开発センター（センター長：遠藤哲郎）とキーサイト?テクノロジー合同会社（職務執行者社長：梅島正明 本社：東京都八王子市高倉町9番1号）は次世代メモリーSTT-MRAMの測定技術を共同で研究しており、その成果を基にキーサイト?テクノロジー合同会社は、次世代メモリーSTT-MRAM 測定システムの製品化を行うことを決定いたしました。製品のリリースは2016年初頭を予定しており、东北大学国际集积エレクトロニクス研究开発センターにおける産学共同研究の成果に基づいた製品化となります。
问い合わせ先
东北大学国际集积エレクトロニクス研究开発センター
センター长 远藤哲郎（教授）
罢贰尝：022-796-3400
支援室长 门脇豊
罢贰尝：022-796-3410
贵础齿：022-796-3432
贰-尘补颈濒：蝉耻辫辫辞谤迟-辞蹿蹿颈肠别*肠颈别蝉.迟辞丑辞办耻.补肠.箩辫（*を蔼に置き换えてください）