2011年 | プレスリリース
あらゆる物質で利用可能な新たなスピン流注入手法を発見 － 次世代の省エネルギーデバイス開発に向けて大きな進展 －
东北大学金属材料研究所の安藤和也助教、齐藤英治教授、独立行政法人日本原子力研究开発机构先端基础研究センターの前川禎通センター长らは、あらゆる物质へ応用可能な新たなスピン流注入手法を発见しました。
近年、电子の电気的性质の流れである电流の代わりに、电子の磁気的性质の流れ「スピン流」を利用するスピントロニクスが次世代の省エネルギー电子情报技术として期待されています。量子コンピュータや超低消费电力情报処理デバイスといった、スピンを利用した次世代电子デバイスを実现するためには、あらゆる物质に利用できる汎用的なスピン流の注入方法を确立することが最重要课题です。しかしスピン流を作り出すことは容易ではなく、これまで物理的な制限から非常に限定された物质にしかスピン流を注入をすることはできませんでした。
今回、安藤助教らは磁気のダイナミクスを利用することで、上记制限を一切受けない极めて汎用的なスピン流注入手法を発见しました。さらにこの方法は电界により制御可能であることを明らかにし、これにより従来用いられてきた方法の１０００倍以上のスピン流を作り出すことに成功しました。
本研究成果によって、金属だけでなく半导体?有机物?高温超伝导体といったあらゆる物质への高効率なスピン流注入が容易に可能となり、スピントロニクスデバイス设计の自由度が大きく拡大されることで、环境负荷の极めて小さい次世代省エネルギー电子技术への贡献が期待されます。
＜报道担当?问い合わせ先＞
（问い合わせ先）
国立大学法人东北大学金属材料研究所
量子表面界面科学研究部门
助教 安藤 和也（あんどう かずや）
TEL: 022-215-2023
量子表面界面科学研究部门
教授 齐藤 英治（さいとう えいじ）
TEL: 022-215-2021
（报道担当）
国立大学法人东北大学金属材料研究所
総务课庶务係
罢贰尝：022-215-2181 贵础齿：022-215-2184