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  东北大学大学院工学研究科の金森義明 准教授と羽根一博 教授の研究グループは、微小な窪みが多数形成された反射防止構造体を光ファイバーの先端に製作する技術を開発しました。　

  光ファイバーは光通信や光分析装置の構成部品として使われており、光源?受光素子やレンズなどの光部品との接続損失を減らすために、先端に反射防止膜が形成されています。従来の反射防止膜は真空装置を使って薄膜を付けるため、コストがかかるのが問題でした。
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;金森准教授らは、ナノインプリント技术を用いて、光ファイバー先端のコア部（光を伝搬する部分）に270ナノメートル（ナノは十亿分の一）间隔で微小な円锥状の洼みを形成し、反射损失を低减することに成功しました。ナノインプリント技术は、基板に涂布したポリマーに原版を押し付けて微细パターンを転写する技术で、高価な露光装置や真空装置が不要なためナノ构造を安価に製作することができます。今回、光ファイバー先端にナノ构造を製作するために専用のナノインプリント装置を开発しました。洼みの间隔が光の波长よりも小さい场合、屈折率が変化し、反射波が生じにくくなります。反射率や波长帯域は、洼みの形状、间隔や高さで决まり、従来の反射防止膜よりも设计の自由度が高いため、要求に合わせて种々の反射防止表面を製作することが可能です。

  詳細は、2010年11月12日にマイクロプロセス?ナノテクノロジー国際会議（開催場所：リーガロイヤルホテル小倉（北九州市小倉））で報告されます。
 

 プレスリリース本文

［问い合わせ先］
东北大学大学院工学研究科
担当：金森义明
电话番号：022-795-6965
E-mail：kanamori*hane.mech.tohoku.ac.jp （＊を＠に換えて下さい）